文章编号：(1992)02-53-3
VCAD法沉积氮化钛膜的X—射线研究
(广州有色金属研究院)
摘 要: 用VCAD法在不锈钢和工模具钢基体上沉积均匀、致密的TiN膜时，TiN膜的色泽、结晶取向和点阵常数均可能随着工艺参数的改变而改变，论文作者用XRD法研究了不同条件下该TiN膜的结构和点阵常数的变化，以及择优取向度，并对膜的行为差异作了分析，结果表明：随着涂层中氮含量的增加，点阵常数值增大;TiNx的色泽与氮含量有关;择优取向主要取决于偏压。
关键字: VCAD法 氮化钛膜，X—射线
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Abstract:
Key words:
