文章编号：(1994)02-55-5
CH4与N2流量比对Ti( C，N)涂层性能的影响①
(1.中南工业大学材料系，长沙410083；
2.株洲硬质合金厂，株洲412000)
摘 要: 采用物理化学气相沉积((PCVD)技术，在硬质合金上涂复Ti (CxN1-x)膜(0<x<1)，测定了涂层厚度、显微硬度、粘结强度与反应气体中CH4/N2比值的关系。在本实验条件下，当CH4/N2=1：1时，涂层具有最佳综合性能和最大沉积速率。采用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及X射线光电子谱(XPS)技术，分析了涂层微观组织、表面形貌、化学成分及涂层/基体界面区微观形貌。在此基础上，就 CH4 /N2值、微观结构及性能间的关系进行了讨论。
关键字: 物理化学气相沉积 气体流量比 硬度 粘结强度 沉积速率
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Abstract:
Key words:
